반도체 장비 클리닝·오염 제거
공정 오염부터 인증서 발행까지
반도체 설비에는 공정 과정에서 화학물질과 오염물이 쌓입니다. 이 오염을 제대로 제거하지 않으면 설비를 이동하거나 개조하거나 폐기할 때 안전 문제가 생깁니다. 반도체 장비 클리닝은 단순 세정이 아닙니다. 부품 내부의 유해가스와 공정 오염물을 안전하게 제거하고, 그 사실을 공식 인증서로 증명하는 전문 작업입니다.
벨포코리아는 자체 클리닝 프로세스와 장비를 통해 반도체 설비의 오염을 정밀하게 제거하고, 완료 인증서까지 발행합니다.
왜 반도체 장비 클리닝이 필요한가요?
반도체 공정에서는 설비 내부에 유해가스와 화학 잔류물, 공정 부산물이 고착됩니다. 설비를 이동·개조·폐기하려면 이 오염물을 반드시 제거해야 하고, 제거 후 유해 물질이 잔존하지 않는다는 사실을 증명하는 공식 인증서가 필요합니다. 즉, 반도체 부품을 다루는 순간부터, 고착 오염을 제거하고 그 결과를 증명서로 발급할 수 있는 공신력 있는 전문가가 필요합니다.
어떤 반도체 공정 설비를 클리닝하나요?
벨포코리아는 다양한 반도체 생산 설비와 부품을 대상으로 클리닝을 수행합니다.
- CMP
- Deposition
- Diffusion / Furnace
- Dry Etch / Plasma Etch
- Ion Implant
- Photolithography · Steppers & Tracks
- Wet Bench, Wet Etch, Wafer Clean
- Metrology
- Wafer Back Grinder
- ALD
자주 묻는 질문
A. 설비를 이동하거나, 개조하거나, 폐기·매각할 때 필요합니다. 부품 내부의 유해가스와 공정 오염물을 제거하고 인증서를 발급받아야 안전하게 처리할 수 있습니다.
A. pH, 산도, 파우더 측정 등 검사 결과를 바탕으로, 유해 물질이 잔존하지 않는다는 사실을 공식적으로 증명합니다. 이 인증서는 설비 이동·매각·폐기 시 안전성과 폐기물 분류의 근거가 됩니다.
벨포는 장비 표면 손상을 최소화하도록 벨포 독일 R&D센터에서 개발한 전용 약품을 사용해 안전하게 오염물만 제거합니다.
A. 벨포(BELFOR)는 전 세계 500여 개 지사를 보유한 글로벌 복구 기업입니다. IICRC 국제 인증 보유 산업 클리닝, 재해 복구 전문 기업이자 반도체 클리닝을 위한 전문 장비와 프로세스를 갖춘 기업입니다.
